Retardation of nucleation rate for grain size enhancement by deep silicon ion implantation of low-pressure chemical vapor deposited amorphous silicon films
I. W. Wu*, A. Chiang, M. Fuse, L. Öveçoglu, T. Y. Huang
Araştırma sonucu: Dergiye katkı › Makale › bilirkişi
68Atıf (Scopus)
Parmak izi
Retardation of nucleation rate for grain size enhancement by deep silicon ion implantation of low-pressure chemical vapor deposited amorphous silicon films' araştırma başlıklarına git. Birlikte benzersiz bir parmak izi oluştururlar.