Residual stresses in (Zr,Hf)N films (up to 11.9 at.% Hf) measured by X-ray diffraction using experimentally calculated XECs

E. Atar, C. Sarioglu, H. Cimenoglu, E. S. Kayali*

*Bu çalışma için yazışmadan sorumlu yazar

Araştırma sonucu: Dergiye katkı › Makale › bilirkişi

20 Atıf (Scopus)

Parmak izi

Residual stresses in (Zr,Hf)N films (up to 11.9 at.% Hf) measured by X-ray diffraction using experimentally calculated XECs' araştırma başlıklarına git. Birlikte benzersiz bir parmak izi oluştururlar.

Keyphrases

Material Science

Engineering